Tấm phân phối khí alumina cho đầu phun CVD/PVD
Tấm phân phối khí (đầu phun) của St.Cera được gia công chính xác từ gốm alumina có độ tinh khiết cao 99,8%. Nó có một loạt các lỗ siêu nhỏ (đường kính 0,3–1,5 mm) đảm bảo luồng khí đồng đều trên bề mặt wafer trong các quy trình CVD, PVD hoặc ALD. Độ bền điện môi cao (>15×10⁶ V/m) và khả năng chống plasma của tấm này làm cho nó trở nên thiết yếu cho quá trình lắng đọng màng mỏng bán dẫn.
Thông số kỹ thuật:
| Tài sản | Giá trị |
| Vật liệu | 99,8% Al₂O₃ hoặc SiC |
| Đường kính | 100 – 1500mm (hình tròn) hoặc hình chữ nhật |
| Độ dày | 5 – 20 mm |
| Đường kính lỗ | 0,3 – 1,5 mm |
| Mẫu lỗ | Tùy chỉnh (hình tam giác, hình vuông, hình tròn) |
| Độ phẳng | ≤10 μm trên toàn bộ diện tích |
| Độ nhám bề mặt | Ra ≤0,6 μm (phía khí) |
| Tỷ lệ diện tích mở | 5–15% |
Ứng dụng:
Tấm đầu vòi sen PECVD
Bộ phun khí ALD
Tấm phân phối khí buồng khắc
các thành phần lò phản ứng MOCVD
Chế tạo:
Bề mặt nền alumina được mài phẳng → Khoan CNC bằng dụng cụ phủ kim cương (dung sai vị trí lỗ ±0,02 mm) → loại bỏ bavia → làm sạch bằng sóng siêu âm → đóng gói theo tiêu chuẩn Class 100.
Kiểm soát chất lượng:
Mỗi tấm được kiểm tra 100% về kích thước lỗ (hệ thống thị giác), độ phẳng (máy đo giao thoa laser) và độ đồng đều của dòng khí (phương pháp đo áp suất). Không phát hiện vết nứt siêu nhỏ nào dưới kính hiển vi 20x.
Ưu điểm so với tấm kim loại:
Không có tạp chất kim loại trong màng mỏng.
Ít phát sinh hạt (không có mảnh vụn ăn mòn)
Chịu được các loại plasma làm sạch mạnh (CF₄, NF₃)
Tính năng tùy chỉnh:
Các kênh dẫn khí phía sau, lỗ khoét ngược, gioăng kín cạnh và các loại vật liệu khác nhau (SiC cho độ dẫn nhiệt cao hơn, lớp phủ Y₂O₃ cho khả năng chống plasma).
Chúng tôi cung cấp dịch vụ kiểm tra CAD và mô phỏng dòng chảy trước khi sản xuất.
